CAS:13829-21-5|N-데실트리클로로실란

CAS 소개:13829-21-5|N-DECYLTRICHLOROSILANE

데실트리클로로실란은 화학식 CH3(CH2)9SiCl3의 선형 분자 구조를 가지고 있습니다. 이 분자는 실리콘 원자에 부착된 데실(10탄소) 사슬로 구성되어 있으며, 이는 다시 3개의 염소 원자에 결합됩니다.

CAS 사양:13829-21-5|N-DECYLTRICHLOROSILANE

CAS의 연구 응용:13829-21-5|N-DECYLTRICHLOROSILANE

고체-액체 계면에서의 흡착: 엘라스토머 폴리디메틸실록산에 지지된 데실트리클로로실란은 고체-액체 계면에서 비이온성 계면활성제의 흡착을 연구하는 모델 시스템으로 사용되었습니다. 이 연구는 이러한 계면에서 계면 장력과 표면 과잉을 이해하는 데 의미가 있습니다(Haidara, Chaudhury, & Owen, 1995).

액정 배향의 표면 제어: 이 화합물의 화학흡착 단층과 관련된 연구는 액정의 방향을 제어하는 ​​데 사용하는 방법을 탐구했습니다. 이 연구는 디스플레이 기술 및 재료 과학 분야의 응용 분야에 가치가 있습니다(Geer, Yang, & Frank, 1997).

자기조립 단층막의 형성: 이 화합물은 실리콘 산화물에서 자체 조립 단층층을 형성하는 데 사용되어 재료의 표면 에너지에 영향을 미칩니다. 이는 특정 특성을 가진 코팅 및 계면 개발에 중요합니다(Belgardt, Graaf, Baumgärtel, & Borczyskowski, 2010).

표면의 물의 움직임: 연구에 따르면 이 화합물에 의해 생성된 표면 자유 에너지의 표면 기울기가 물방울이 위쪽으로 이동할 수 있습니다. 이 발견은 유체 역학 및 표면 공학에 영향을 미칩니다(Chaudhury & Whitesides, 1992).

나노 크기의 막 형성: 이 화합물은 유리 기판 상에 나노 크기의 폴리아닐린 막을 빠르게 형성하는 데 사용되었으며, 이는 마이크로 전자공학 및 기체 분리 기술에 중요합니다(Tao, Wang, Wei, & Wu, 2007).

마이크로 기계 구조 제작: 이 화합물은 습식 방출 공정에서 가늘고 유연한 미세 기계 구조를 제작하는 데 사용되어 미세 제조 및 MEMS 기술 분야에서 중요성을 입증했습니다(Pamidighantam et al., 2002).

인기 탭: cas:13829-21-5|n-데실트리클로로실란, 중국 cas:13829-21-5|n-데실트리클로로실란 제조업체, 공장